‘반도체 기술’ 유출한 삼성전자 전 엔지니어, 1심서 ‘집행유예’…검찰 항소

법원 “해외 유출 안 됐다”…1년 6개월 집유 선고
검찰 “국가 안보·국민 경제에 막대한 피해 우려”
“반성 없는 점 고려해 더 무거운 처벌 받게 해야”

서울 서초구 삼성전자 서초사옥. <사진=연합뉴스>

국내 반도체 첨단 기술을 해외에 빼돌린 삼성전자 전 직원이 1심에서 징역형의 집행유예를 선고받은 가운데 이에 불복한 검찰이 항소를 제기했다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)는 부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률과 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 등 위반 혐의로 기소된 삼성전자의 전 반도체 엔지니어가 징역 1년 6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원의 판결을 받은 것에 대해 항소했다고 3일 밝혔다.

삼성전자에서 근무하다 외국 경쟁사로 이직한 해당 엔지니어는 2018년 8월 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 33개 파일을 외부에서 열람하고, 사진 촬영을 통해 핵심 자료를 부정 취득했다. 이에 국가핵심기술과 영업비밀을 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.

검찰은 해당 직원에게 징역 5년과 벌금 1억원을 구형했으나, 법원은 “통신망 링크를 통해 파일을 열람하며 촬영한 행위는 국가핵심기술과 영업비밀 유출로 보기 어려우나 (국외 유출을) 미필적으로 인식하고 취득했다”며 징역형의 집행유예를 선고했다.

이에 검찰은 “해외로 유출될 경우 국가 안보 및 국민 경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 기술을 부정 취득해 사익 목적으로 활용한 사건이다”며 “공판 과정에서 본인의 혐의를 극히 일부만 인정하면서 반성하지 않은 점 등을 고려할 때 더 무거운 처벌을 받게 할 필요가 있다”고 항소 이유를 밝혔다.

이어 “항소심에서 죄책에 상응하는 엄정한 형이 선고될 수 있도록 공소 유지에 최선을 다하겠다”고 설명했다.

[CEO스코어데일리 / 오창영 기자 / dongl@ceoscore.co.kr]

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